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上海SGN新技術，*創(chuàng)意，融化新理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改進，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改進型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱為“研磨均質機”、“研磨分散機”、“研磨乳化機”。GMSD2000石墨烯導電漿料超高剪切分散機
更新時間：2024-01-05
產品型號：
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SGN思峻高剪切分散設備分散工藝GRS2000 輸出轉速 1100-14000r/min 線速度 23-44m/s 功率 2.2-160kw 流量 1000-125000L/h 入出口管徑 DN25/15-DN200/150 適用物料類型 顆粒、粉體、液體、膏霜 重量 75-870kg 工作方式 高剪切分散 適用溫度 ＜120° 變速方式 變頻變速 分散盤直徑 45-298mm 外觀尺寸 依據
更新時間：2024-01-19產品型號：分散機GRS2000瀏覽量：544
脂溶性纖維素超高速分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。
更新時間：2024-01-19產品型號：XMD2000瀏覽量：1283中性墨水涂料高速分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。
更新時間：2024-01-19產品型號：XMD2000瀏覽量：1105硅高分子微球高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。
更新時間：2024-01-19產品型號：XMD2000瀏覽量：1150復合碳材料納米分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
更新時間：2024-01-19產品型號：XMD2000瀏覽量：995
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