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PRODUCTS CNTER當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心研磨分散機高速研磨分散機GMD2000高純度氧化鋁粉研磨分散機
高純度氧化鋁粉研磨分散機主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中,然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法滿足分散效果的要求,傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低,一般為3000rpm。而采用SGN管線式研磨分散機,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機一體化,先研磨后分散,分散粒徑更小,粒徑分布更均勻。
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ARTICLES一、產(chǎn)品名稱:高純度氧化鋁粉研磨分散機,氧化鋁粉高速分散機,高純氧化鋁漿料分散機,金屬氧化物研磨分散機,化工研磨分散機
二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用
氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點。高純氧化鋁氧粉,又稱三氧化二鋁,分子量102,是一種白色無定形粉狀物,俗稱礬土。
高純氧化鋁的應(yīng)用:
一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于先進陶瓷,4N主要應(yīng)用于熒光粉,5N應(yīng)用于藍寶石晶體、鋰電池隔膜、高級陶瓷等。
:應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
中端:應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈,藍寶石襯底,對純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
低端:集成電路基板、消費電子,紫外固化涂料等方面的應(yīng)用,需要使用4N級別左右的高純超細(xì)氧化鋁,整體要求相對較低。
詢價和技術(shù)問題請來電:李 () 公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)。
三、高純度氧化鋁粉的應(yīng)用工藝
主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中,然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法滿足分散效果的要求,傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低,一般為3000rpm。而采用SGN高純度氧化鋁粉研磨分散機,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機一體化,先研磨后分散,分散粒徑更小,粒徑分布更均勻。
四、SGN化工研磨分散機的優(yōu)勢
1、上海SGN研磨式分散機可以很好的解決這一問題,“膠體磨+分散機”的*結(jié)構(gòu),一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm,難以分散。而SGN研磨分散機轉(zhuǎn)速高達14000rpm,剪切速率高,可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。
3、SGN研磨分散機采用管線式分體式結(jié)構(gòu),物料從進口進入設(shè)備工作腔中,進行處理,然后再從出口打出,物料100%得的剪切細(xì)化分散,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實現(xiàn)在線式生產(chǎn),滿足大工業(yè)化生要求。
五、GMD2000系列選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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